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至純科技(603690.SH):公司可滿足28nm全部濕法工藝需求 且全工藝機(jī)臺(tái)均有訂單_全球視點(diǎn)

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日期:2023-06-06 07:23:19    來源:清一色財(cái)經(jīng)    


(資料圖)

來源:格隆匯

格隆匯6月6日丨至純科技(603690.SH)近期接受特定對(duì)象調(diào)研時(shí)表示,公司可滿足28nm全部濕法工藝需求,且全工藝機(jī)臺(tái)均有訂單。公司濕法設(shè)備聚焦芯片制造的前道工藝,高端產(chǎn)品包括SPM高溫硫酸、去膠、晶背清洗等設(shè)備。其中單片SPM工藝應(yīng)用貫穿整個(gè)先進(jìn)半導(dǎo)體的前、中段工藝,是所有濕法工藝中應(yīng)用最多的一種設(shè)備,SPM工藝被公認(rèn)是28/14nm性能要求最高的工藝,也是最具挑戰(zhàn)的濕法工藝設(shè)備。在至純科技的單片SPM獲得突破之前,所有的單片SPM設(shè)備全部由國外廠商所壟斷。公司在核心工序段的高階設(shè)備累計(jì)訂單量近20臺(tái)。公司依靠專業(yè)度高、技術(shù)能力強(qiáng)的核心人才隊(duì)伍,率先突破14nm及以下制程的濕法設(shè)備的研發(fā),進(jìn)一步提高行業(yè)壁壘,奠定國內(nèi)專業(yè)濕法設(shè)備供應(yīng)商的領(lǐng)先地位。14nm及以下也有4臺(tái)訂單交付。

其進(jìn)一步表示,受2022年下半年以來美國制裁影響,晶圓廠投產(chǎn)節(jié)奏放緩,公司半導(dǎo)體清洗設(shè)備受到一定影響,2023年一季度設(shè)備新接訂單相比去年有一定下降,但從一季度的行業(yè)情況來看,部分客戶已重新啟動(dòng),在進(jìn)行設(shè)備的技術(shù)交流與商務(wù)洽談中,訂單落地情況請(qǐng)關(guān)注今年二三季度。

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